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        銅合金金相檢驗(yàn) 加工銅合金專業(yè)檢測(cè) 宏觀組織檢測(cè)機(jī)構(gòu)

        品牌: 納卡檢測(cè)
        檢測(cè)周期: 3~5個(gè)工作日
        報(bào)告形式: 紙質(zhì)+電子報(bào)告
        單價(jià): 面議
        發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 天內(nèi)發(fā)貨
        所在地: 四川 成都
        有效期至: 長(zhǎng)期有效
        發(fā)布時(shí)間: 2024-05-09 01:54
        最后更新: 2024-05-09 01:54
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        詳細(xì)說(shuō)明

        金相制樣及問(wèn)題解析

        金相分析是研究材料內(nèi)部組織結(jié)構(gòu)的重要方法,一般用來(lái)進(jìn)行失效分析(FA)、質(zhì)量控制(QC)、研發(fā)(RD)等。而金相試樣制備的目的是獲得材料內(nèi)部真實(shí)的組織結(jié)構(gòu),需要通過(guò)不同的金相試樣制備方法去完成。

        一般來(lái)說(shuō),金相試樣制備的方法有:機(jī)械法(傳統(tǒng)意義上的機(jī)械制備--磨拋)、電解法(電解拋光和浸蝕)、化學(xué)法(化學(xué)浸蝕)、化學(xué)機(jī)械法(化學(xué)作用和機(jī)械作用同時(shí)去除材料)。

        金相試樣制備的結(jié)果需要滿足以下要求:1、試樣必須具有代表性;2、所有結(jié)構(gòu)元素必須保留;3、試樣表面必須無(wú)劃痕也無(wú)變形;4、試樣表面不應(yīng)有外來(lái)物質(zhì);5、試樣表面必須平整且呈鏡面。

        對(duì)于金相試樣來(lái)說(shuō),傳統(tǒng)的機(jī)械制備是主要手段。金相試樣機(jī)械制備步驟一般分為:切割(cutting)、鑲嵌(mounting)、研磨(grinding)、拋光(polishing)、蝕刻(etching)、顯微鏡觀察(observation)。至于每一個(gè)步驟的制樣理論不贅述,以下主要列出常見(jiàn)的制樣難點(diǎn)問(wèn)題及解決方案,以供參考。

        一、切割:

        金相取樣一般會(huì)選擇濕式砂輪片切割法(金相切割機(jī)),取樣位置根據(jù)金相檢測(cè)目的來(lái)決定(是常規(guī)金相檢測(cè)取樣還是失效分析取樣,是縱向還是橫向取樣),金相取樣的一般原則是在取樣過(guò)程中不能導(dǎo)致試樣過(guò)熱,否則會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重的熱變形,對(duì)后續(xù)制樣帶來(lái)不便。切割過(guò)程中常見(jiàn)的一些問(wèn)題有:1、切割過(guò)程中砂輪片崩裂;2、切割下來(lái)的試樣有毛邊;3、切割的工件表面有燒傷;4、切割面不平整;5、切割輪損耗較大;6、切割涂層類樣品時(shí)涂層易脫層

        二、鑲嵌:

        為了便于機(jī)械磨拋,將金相試樣鑲嵌成標(biāo)準(zhǔn)尺寸大小。往往會(huì)根據(jù)不同的應(yīng)用要求(比如鑲嵌料是否需要具有導(dǎo)電性、試樣邊緣是否需要邊緣保護(hù)、試樣是否需要批量鑲嵌、鑲嵌樹(shù)脂是否需要很好地填充到試樣內(nèi)部孔隙中等等)來(lái)選擇不同的鑲嵌方案:是選擇冷鑲還是熱鑲?是選擇冷鑲或熱鑲樹(shù)脂中的哪一種?鑲嵌過(guò)程中常見(jiàn)的一些問(wèn)題有:1、冷鑲嵌塊有大量氣泡;2、試樣與樹(shù)脂交界處有縫隙;3、鑲嵌塊表面有放射狀裂紋;4、鑲嵌樹(shù)脂黏模。

        三、磨拋:

        為了獲得真實(shí)的材料內(nèi)部組織,需要通過(guò)逐道次機(jī)械研磨和拋光來(lái)實(shí)現(xiàn)。磨拋難點(diǎn)在于,會(huì)存在許多制備贗像,而這些贗像會(huì)干擾我們對(duì)真實(shí)組織的判斷。磨拋過(guò)程中常見(jiàn)的一些問(wèn)題有:1、劃痕;2、涂覆;3、變形;4、邊緣磨圓;5、浮雕;6、脫落;7、磨料嵌入;8、曳尾;9、開(kāi)裂;10、虛假孔隙率。

        四、蝕刻:

        蝕刻提高了試樣拋光表面的對(duì)比度,展示出材料的微觀或宏觀結(jié)構(gòu)(金相圖),比如晶界或者相的輪廓形貌,這將有助于我們進(jìn)行金相分析。蝕刻要點(diǎn)有:1、蝕刻之前試樣表面需要達(dá)到一個(gè)盡量無(wú)變形或無(wú)劃痕的光滑表面;2、如果是電解制樣,可以先進(jìn)行電解拋光緊接著進(jìn)行電解蝕刻。3、選擇適合當(dāng)前材料的化學(xué)蝕刻液或者電解蝕刻液。

         

        檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)及參數(shù):

         

        測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)名稱參數(shù)測(cè)試內(nèi)容適用范圍
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