300噸/天生活污水處理設(shè)備

300噸/天生活污水處理設(shè)備

一、生活污水處理設(shè)備——介紹

生活污水處理設(shè)備是一種用于處理生活污水的設(shè)備，它可以有效地去除污水中的有害物質(zhì)，如細(xì)菌、病毒、油脂、懸浮物和有機(jī)物等。生活污水處理設(shè)備的應(yīng)用范圍非常廣泛，包括家庭、學(xué)校、醫(yī)院、商業(yè)場所等。生活污水處理設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)是處理效果好，可以有效地去除生活污水中的有害物質(zhì)，并且設(shè)備占地面積小，操作簡便。同時(shí)，生活污水處理設(shè)備也可以通過改變工藝流程和設(shè)備配置來適應(yīng)不同的污水處理需求。

在選擇生活污水處理設(shè)備時(shí)，需要考慮設(shè)備的處理能力、占地面積、運(yùn)行成本、維護(hù)費(fèi)用等因素。同時(shí)，也需要根據(jù)污水的來源、水質(zhì)等情況選擇合適的處理工藝和設(shè)備類型。

二、生活污水處理設(shè)備——污水處理工藝

1、A2/O工序：

原污水和從沉淀池回流過來的污泥首先進(jìn)到厭氧池，在這里污泥中的聚磷菌運(yùn)用原污水中融解的有機(jī)物做好厭氧釋磷，接著它與好氧末端回流混合液一同進(jìn)到厭氧池。

在這里污泥中的反硝化細(xì)菌依據(jù)剩下的有機(jī)物及其回流的硝酸鹽做好反硝化脫氮，脫氮化學(xué)反應(yīng)做好完后，進(jìn)到到好氧池，在這里污泥中的硝化菌開始硝化反應(yīng)，把工業(yè)廢水中的氨氮氧化成硝酸鹽，而聚磷菌與此同時(shí)在這里做好好氧吸磷，剩下的有機(jī)物也被在這里氧化，最終經(jīng)沉淀池依據(jù)泥水分離，出水排污，沉淀的污泥部分重回厭氧池，部分則以富磷剩下污泥方式排出。

2、SBR工序：

依據(jù)時(shí)間做好劃分的間歇式活性污泥法可統(tǒng)稱為SBR法。常見SBR工序過程的一個(gè)完整性運(yùn)作包含五個(gè)階段，先后為：進(jìn)水階段-加入基質(zhì)；化學(xué)反應(yīng)階段-基質(zhì)降解；沉淀階段-泥水分離；排水管道階段-排出上清液；閑置階段-等待下一次進(jìn)水。

3、氧化溝工序：

氧化溝，也稱之為連續(xù)循環(huán)式化學(xué)反應(yīng)池，因其構(gòu)筑物結(jié)構(gòu)呈封閉的溝渠型而得名，因而被稱作“無終端的曝氣系統(tǒng)"。氧化溝選用連續(xù)循環(huán)式化學(xué)反應(yīng)池（CintinuousLoopReator,簡稱CLR）做為生物化學(xué)反應(yīng)池，污水與活性污泥混合液在閉合的曝氣渠道中做好連續(xù)循環(huán)。氧化槽污水處理技術(shù)是一種延遲曝氣方法，通常由槽體、曝氣裝置、入水裝置、導(dǎo)流和混合裝置組成。氧化溝采用方向控制曝氣攪拌裝置將物質(zhì)水平轉(zhuǎn)移到化學(xué)反應(yīng)池中，攪拌污水在封閉通道中循環(huán)。

300噸/天生活污水處理設(shè)備

三、生活污水處理設(shè)備——特點(diǎn)：

魯盛環(huán)保生活污水處理設(shè)備采用技術(shù)密集度較高的工藝流程和內(nèi)部結(jié)構(gòu)，使污染物去除率高，處理效果好。

運(yùn)行微動(dòng)力消耗，低噪聲污染。

生物接觸氧化基本不存在污泥膨脹問題，運(yùn)行管理簡便。

由于生物固體量多，水流又屬于wan全混合型，因此生物接觸氧化池對(duì)水質(zhì)水量的驟變有較強(qiáng)的適應(yīng)能力。

采用成熟的膜生物反應(yīng)器工藝路線，具有良好的去除污水中的有機(jī)物和較好的脫氮功能，以滿足排放標(biāo)準(zhǔn)的要求。

具有較好的耐沖擊負(fù)荷能力，以適應(yīng)水質(zhì)、水量變化的特點(diǎn)。

調(diào)節(jié)池內(nèi)設(shè)預(yù)曝氣，可降低污水中有機(jī)物濃度，又可防止調(diào)節(jié)池污染物腐化發(fā)臭，大大改善了周圍的環(huán)境。

采用污泥前置回流硝解工藝，大大降低污泥的生成量。

采用新型填料，掛膜快，壽命長，處理見效快。

充分考慮二次污染產(chǎn)生的可能性，將其影響降低至低程度。

采用集中控制、自動(dòng)化運(yùn)行，易于管理維修，提高系統(tǒng)可靠性、穩(wěn)定性。

系統(tǒng)處理設(shè)施全部設(shè)置在地表以下，不占地表面積，可作綠化，又利于防凍（風(fēng)機(jī)控制室除外）。